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濺射鍍膜機的功能和原理

2021-04-22 10:32:06

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濺射鍍膜機的基本原理是在電場和交變磁場作用下，在ar-02氣體中利用等離子體對目標(biāo)表面進行加速高能粒子的轟擊。能量交換后，目標(biāo)表面上的原子從原晶格中逸出，轉(zhuǎn)移到基底表面形成薄膜。

該濺射機具有成膜速度高、襯底溫度低、附著力好等特點，可實現(xiàn)大面積鍍膜。該技術(shù)可分為直流磁控濺射和射頻磁控濺射。

當(dāng)電子在電場作用下加速到基底時，它們與氬原子碰撞，電離大量氬離子和電子，電子飛到基底上。在電場作用下，濺射機加速了靶的轟擊，飛濺出大量的靶原子，并在襯底上沉積中性靶原子（或分子）形成薄膜。在加速到襯底的過程中，由于磁場的洛倫茲磁場的影響，二次電子在靠近目標(biāo)表面的等離子體區(qū)內(nèi)被束縛。該區(qū)的等離子體密度很高。在磁場作用下，二次電子在目標(biāo)表面上進行圓周運動。電子有很長的運動路徑。在運動過程中，它們在撞擊目標(biāo)時不斷與氬原子碰撞，電離大量氬離子，多次碰撞后電子能量逐漸減小，擺脫磁場線，遠(yuǎn)離目標(biāo)，最終沉積在基體上。

東北磁控濺射廠家

濺射機是利用磁場結(jié)合和擴展電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工作氣體的電離率，有效地利用電子的能量。電子靶不僅是基底，而且是真空室壁和靶陽極。通常，基板與真空室和陽極的電位相同。磁場與電場（E、x、B、漂移）的相互作用使單電子的軌跡在目標(biāo)表面上呈現(xiàn)三維螺旋運動而非圓形運動。對于靶表面的環(huán)向濺射輪廓，目標(biāo)源的磁場線呈圓形。

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