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高真空電弧熔煉及吸鑄

高真空電弧熔煉及吸鑄

  • 所屬分類(lèi)：電弧熔煉
  • 瀏覽次數(shù)：次
  • 發(fā)布日期：2020-08-07 15:39:20
我要詢(xún)價(jià)
  • 產(chǎn)品概述
  • 性能特點(diǎn)
  • 技術(shù)參數(shù)

高真空電弧熔煉及吸鑄系統(tǒng)

設(shè)備用途：

高真空電弧熔煉及吸鑄系統(tǒng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

設(shè)備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、磁力攪拌、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。

極限真空：8x10-5Pa；

20分鐘可達(dá)到5x10-3Pa；

共5個(gè)工位（SR35mm）：3個(gè)熔煉合金工位（帶磁攪拌）；1個(gè)熔煉除氣工位；1個(gè)吸鑄工位；熔煉樣品重量（以鐵標(biāo)定）100克；

分子泵系統(tǒng)：1套；

熔煉電源輸入電流：1250A；

冷卻水路系統(tǒng)：1套。

標(biāo)簽

電弧熔煉及吸鑄電弧熔煉價(jià)格電弧熔煉廠(chǎng)家
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