磁控濺射技術(shù)發(fā)展過程中各項技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對等離子體進行的控制等方面。通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制,使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。
膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān),如靶的刻蝕狀態(tài),靶的電磁場設(shè)汁等,因此,為保證膜厚均勻性,國外的薄膜制備公司或鍍膜設(shè)備制造公司都有各自的關(guān)于鍍膜設(shè)備(包括核心部件“靶”)的整套設(shè)計方案。同時,還有很多專門從事靶的分析、設(shè)計和制造的公司,并開發(fā)相關(guān)的應用設(shè)計軟件,根據(jù)客戶的要求對設(shè)備進行優(yōu)化設(shè)計。國內(nèi)在鍍膜設(shè)備的分析及設(shè)計方面與國際先進水平之間還存在較大差距。
因此,建立濺射鍍膜綜合設(shè)計系統(tǒng)是勢在必行的。系統(tǒng)的建立可按照由整體綜合設(shè)計展開到部分設(shè)計,然后,再由部分設(shè)計逐步深入到整體綜合設(shè)計,即“整體到部分,再到整體”這一動態(tài)設(shè)計理念,不斷完善設(shè)計系統(tǒng)。將濺射鍍膜所涉及的重要因素列舉出來,找出它們之間的內(nèi)在聯(lián)系,進而建立濺射鍍膜綜合設(shè)計系統(tǒng),在此基礎(chǔ)上進行膜厚均勻性研究,并為后期轉(zhuǎn)化為設(shè)計系統(tǒng)軟件做鋪墊,來實現(xiàn)制備薄膜均勻性好的大面積薄膜,為生產(chǎn)提供有力的保障。
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