磁控濺射鍍膜技術(shù)主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品來(lái)沉積金屬或化合物薄膜從而獲得光亮、美觀、經(jīng)濟(jì)的塑料、陶瓷表面金屬化制品。裝飾、燈具、家具、玩具、工藝美術(shù)、裝璜等生活領(lǐng)域的制膜技術(shù)通常用磁控濺射方法，該方法還應(yīng)用于軍事保護(hù)膜、光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、電路印制板、防潮增透膜、耐磨膜、防銹抗蝕等工業(yè)領(lǐng)域。

磁控濺射不僅應(yīng)用于科研及工業(yè)領(lǐng)域，已延伸到許多日常生活用品，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技術(shù)在制備電子封裝及光學(xué)薄膜方面已有多年，特別是先進(jìn)的中頻非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜、透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。透明導(dǎo)電玻璃目前應(yīng)用廣泛，如電視電腦平板顯示器件、電磁微波與射頻屏蔽裝置及器件、太陽(yáng)能電池等。另外，在光學(xué)存儲(chǔ)領(lǐng)域中磁控濺射鍍膜技術(shù)也發(fā)揮著很大的作用。再者，該制膜技術(shù)在表面功能薄膜、自潤(rùn)滑薄膜、超硬薄膜等方面的應(yīng)用也很廣泛。

除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域外，磁控濺射鍍膜技術(shù)還在高溫、超導(dǎo)薄膜、巨磁阻薄膜、鐵電體薄膜、發(fā)光薄膜、形狀記憶合金薄膜、太陽(yáng)能電池等研究方面發(fā)揮著重要作用。

高能脈沖磁控濺射：自瑞典科學(xué)家首次采用高能脈沖作為磁控濺射的供電模式并沉積了Cu薄膜后，HPPMS自以其較高的金屬離化率在近幾年受到廣泛關(guān)注，高能脈沖磁控濺射技術(shù)是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來(lái)產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù)，由于脈沖作用時(shí)間短，其平均功率不高，這樣陰極不會(huì)因過(guò)熱而增加靶冷卻的要求。它的峰值功率是普通磁控濺射的100倍，約為1000- 3000 W/cm2，等離子體密度可以高達(dá)1018 m-3數(shù)量級(jí)，濺射材料離化率極高，濺射Cu靶可達(dá)70%，且這個(gè)高度離子化的束流不含大顆粒，生成的薄膜致密，性能優(yōu)異。