隨著如今科技的發(fā)達(dá),人們對(duì)鍍膜的要求越來(lái)越高。為了滿(mǎn)足這一需要,不少?gòu)S家推出了磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備,這種設(shè)備對(duì)于改良鍍膜產(chǎn)品非常的有效,其能夠以高速、低溫、能夠?yàn)R射在任何材料上,是目前很多企業(yè)都有在使用的一種設(shè)備。
磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的穩(wěn)定性,對(duì)所生成的膜均勻性、成膜質(zhì)量、鍍膜速率等方面有很大的影響。磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的濺射種類(lèi)有很多,按照使用的電源分,能夠分為直流磁控濺射,射頻磁控濺射,中頻磁控濺射等等。
直流磁控濺射所用的電源是直流高壓電源,通常在300~1000V,特點(diǎn)是濺射速率快,造價(jià)低,后期維修保養(yǎng)便宜。但是只能濺射金屬靶材,如果靶材是絕緣體,隨著濺射的深入,靶材會(huì)聚集大量的電荷,導(dǎo)致濺射無(wú)法繼續(xù)。因此對(duì)于金屬靶材通常用直流磁控濺射,由于造價(jià)便宜,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,目前在工業(yè)上應(yīng)用廣泛。
射頻磁控濺射所用的射頻電源的頻率通常是13.56 MHz,可以解決直流磁控濺射不能濺射絕緣靶材的問(wèn)題。射頻磁控濺射的特點(diǎn)是:絕緣靶材和金屬靶材都能濺射,膜層與基片的附著力強(qiáng)。但是由于結(jié)構(gòu)裝置比較復(fù)雜,射頻電源價(jià)格昂貴,維修維護(hù)成本比較高,會(huì)對(duì)人體產(chǎn)生輻射,并且需要外部的匹配網(wǎng)絡(luò)等因素,不適合應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)。
磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備市場(chǎng)前景如何
中頻磁控濺射常用于反應(yīng)濺射,來(lái)制備金屬化合物薄膜,在腔體中除了氬氣外,另外加入少量反應(yīng)氣體如:氮?dú)?、氧氣等,使這些反應(yīng)氣體的分子與靶材原子一起沉積到基片上,形成金屬化合物薄膜。
以上就是磁控濺射鍍膜設(shè)備按照電源劃分的濺射種類(lèi),希望能夠給廣大用戶(hù)帶來(lái)幫助。