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淺析磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用廣泛

2020-07-21 16:31:44

目前我國(guó)磁控濺射鍍膜儀市場(chǎng)銷售非?;馃?,這是一項(xiàng)熱門的新技術(shù),它帶給企業(yè)和廠家的不僅僅是技術(shù),還能夠節(jié)省大量的人工運(yùn)作成本,因此深受廣大用戶的青睞。

磁控濺射鍍膜設(shè)備可制備多種薄膜,不同功能的薄膜,還可沉積組分混合的混合物、化合物薄膜;磁控濺射等離子體阻抗低,從而導(dǎo)致了高放電電流,在約500V的電壓下放電電流可從1A 到100A(取決于陰極的長(zhǎng)度);成膜速率高,沉積速率變化范圍可從1nm/s到10nm/s;成膜的一致性好,甚至是在數(shù)米長(zhǎng)的陰極濺射的情況下,仍能保證膜層的一致性;基板溫升低;濺射出來的粒子能量約為幾十電子伏特,成膜較為致密,且膜基結(jié)合較好。

磁控濺射鍍膜設(shè)備得以廣泛的應(yīng)用是因?yàn)樵摷夹g(shù)的特點(diǎn)所決定的,其特點(diǎn)可歸納為:可制備成靶材的各種材料均可作為薄膜材料,包括各種金屬、半導(dǎo)體、鐵磁材料,以及絕緣的氧化物、陶瓷、聚合物等物質(zhì)。

另外磁控濺射調(diào)節(jié)參數(shù)則可調(diào)諧薄膜性能,尤其適合大面積鍍膜,沉積面積大膜層比較均勻。

近年來,磁控濺射鍍膜設(shè)備在我國(guó)愈發(fā)的流行,從側(cè)面反映出了我國(guó)工業(yè)發(fā)展十分迅速,今后設(shè)備取代人工的可能性是非常巨大的。

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

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