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磁控濺射鍍膜儀的作用!

2020-07-21 17:25:05

真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。

鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面,為最后獲得高質量鍍層作準備,要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。

磁控濺射


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