當(dāng)前標(biāo)簽：DZ熱阻蒸發(fā)
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設(shè)備用途：熱阻蒸發(fā)系統(tǒng)適用于制備金屬薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。設(shè)備組成：該設(shè)備主要由金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系
